Spanish China /   Imagen del 20 de junio de 2018 de modelos presentando creaciones durante la 20 edición de la Competencia Internacional para Diseñadores en kielce, Polonia. 

Las creaciones de la diseñadora china Chen Jing, tituladas “Yin y Yang”, ganaron la vigésima edición de la Competencia Internacional de Diseñadores y Entusiastas de la Moda “Off Fashion”, llevada a cabo en Kielce, Polonia.

De acuerdo con los organizadores del evento realizado el 1 y 2 de junio, más de 100 diseñadores pasaron a las semifinales de la competencia, pero de ellos sólo 20 llegaron a las finales, incluidos dos estudiantes del Instituto de la Moda de Beijing, entre ellos Chen Jing.

La creación de Chen, “Yin y Yang”, se convirtió en la ganadora, mientras que el diseñador polaco Adrian Krupa y el Dueto RAD se ubicaron en segundo y tercer sitios, respectivamente. En la competencia también se entregaron premios y reconocimientos adicionales.

En entrevista con Xinhua, Chen Jing dijo que ésta es la primera vez que participa en una competencia de ese tipo en el extranjero. “El resultado me alentó a crear mejores trabajos”, agregó.

Liao Qing del Instituto de la Moda de Beijing declaró que las competencias de diseño internacionales brindan a los estudiantes una plataforma para mostrar su diseño creativo y compartir experiencias. El instituto desea aprovechar esas competencias para promover la cultura tradicional del vestido y los diseños innovadores de China, agregó.

La Competencia Internacional de Diseñadores y Entusiastas de la Moda en Kielce fue iniciada en 2007. Se enfoca en diseñadores jóvenes y tiene el objetivo de darles la oportunidad de tener un buen comienzo en el negocio.

A los ganadores se les otorgan becas y se les da la oportunidad de presentar sus colecciones en desfiles de la moda prestigiosos.

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